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日本大冢電子nanoSAQLA納米粒度測(cè)定儀的技術(shù)解析

發(fā)布時(shí)間： 2025-07-14　　點(diǎn)擊次數(shù)： 244次

　　日本大冢電子(Otsuka)推出的nanoSAQLA納米粒度測(cè)定儀是一種基于動(dòng)態(tài)光散射(DLS)技術(shù)的粒度測(cè)量裝置。該設(shè)備能夠測(cè)量粒徑范圍在0.6nm至10μm之間的顆粒，適用于從稀薄到濃厚系的廣泛濃度范圍的多檢體測(cè)定。nanoSAQLA采用了新的光學(xué)系統(tǒng)，實(shí)現(xiàn)了實(shí)驗(yàn)室所需的輕量化、小型化，并且標(biāo)準(zhǔn)測(cè)量時(shí)間為1分鐘，提供了高速測(cè)定的能力。此外，該設(shè)備是非浸泡型設(shè)計(jì)，不受接觸器影響，無需自動(dòng)取樣器，標(biāo)配“5檢體連續(xù)測(cè)量”功能，為用戶帶來了極大的便利。

　　nanoSAQLA的光源采用高功率半導(dǎo)體激光(660nm、70mW)，配備高感度APD檢測(cè)器，能夠連續(xù)測(cè)量最多5個(gè)樣品。測(cè)量范圍為0.6nm至10μm，濃度范圍為0.00001%至40%，溫度范圍為0至90℃，并具備溫度梯度功能。樣品容量適用于四面透光比色皿(1.2mL以上)和微量比色皿(20μL以上)，設(shè)備的尺寸為W240 X D480 X H375 mm，重量約為18 kg。

　　軟件方面，nanoSAQLA配備了平均粒徑分析(累積量法)、粒徑分布解析等功能，支持Marquardt法、Contin法、NNLS/Unimodal法等多種分析方法。此外，設(shè)備還具備粒度分布重疊、逆相關(guān)數(shù)殘差Plot、粒徑監(jiān)測(cè)等功能，粒徑表示范圍為0.1至106 nm。設(shè)備還符合21 CFR Part11標(biāo)準(zhǔn)，可選配微量樣品池(20μL起對(duì)應(yīng))和熒光濾光片。

　　nanoSAQLA納米粒度測(cè)定儀以其高精度、高效率和靈活性，在科研和工業(yè)應(yīng)用中發(fā)揮著重要作用，是實(shí)現(xiàn)精確粒度控制的理想選擇。

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